氧化物靶材/溅射靶材-尺寸规格可定制(西安齐岳) / 四六文摘

为了更好的应用六方氮化硼,不仅需要对其进行剥离,减少片层的堆叠,还应对其进行改性,利用物理法.化学法和物理化学结合的方法,使六方氮化硼接上官能团,同时使片层数量减少.不过功能化剥离hBN要比功能化石墨 ...

闻名世界的攀枝花钒钛磁铁矿山1.前言含钒钛磁铁矿岩体分为基性岩(辉长岩)型和基性-超基性岩(辉长岩-辉石岩-辉岩)型两大类,前者有攀枝花.白马.太和等矿床,后者有红格.新街等矿床.总的来说,两种类型的 ...

在手机外观大同小异的今天,一款手机要想取得一定的市场优势难度也越来越大,从机身材料商追求差异化成了各厂商不断摸索的方向.金属.玻璃.陶瓷,手机外壳材料的变化也给其加工设备市场带来了不小的机遇,CNC. ...

5. 钒渣提纯钒工艺目前,由钒渣提取钒的工艺主要有钠化焙烧和钙化焙烧两种工艺. 5.1 钠化焙烧提钒钒渣中V2O5含量大约是10%~25%,对于从钒渣中提取V2O5的研究有很多,目前 ...

一.溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的.任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性.短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学 ...

无机纳米西安齐岳生物科技有限公司将从零维/一维/二维/三维四个分类来提供几十个产品分类和几千种纳米材料产品,材料的材质包含金属纳米材料和非金属纳米材料以及他们的氧化物或碳化物及复合定制材料等等,产品粒 ...

溅射靶材的介绍溅射靶材是指通过磁控溅射.多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.溅射靶材广泛应用于装饰.工模具.玻璃.电子器件.半导体.磁记录. ...

溅射靶材包括(金属靶材.合金靶材.陶瓷靶材.氧化物靶材.氟化物靶材.硫化物靶材).蒸发镀膜材料.基片材料.晶体材料.无机化合物材料.半导体材料.太阳能光伏材料.电子材料.金属粉末.氧化物粉末.贵金属材 ...

金属靶材材质分类:镍靶.Ni.钛靶.Ti.锌靶.Zn.铬靶.Cr.镁靶.Mg.铌靶.Nb.锡靶.Sn.铝靶.Al.铟靶.In.铁靶.Fe.锆铝靶.ZrAl.钛铝靶.TiAl.锆靶.Zr.铝硅靶.AlS ...

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速 ...

靶材是一种具有高附加值的特种电子材料,是溅射薄膜材料的源极.陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展,靶材市场规模日益膨胀. 陶瓷靶材的种类: (1)按应用来分,可分为半导体关联陶瓷 ...

在作为高技术制高点的芯片产业中,溅射靶材是超大规模集成电路制造的必需原材料.它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固 ...

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